ফ্যাব ফ্লোরে, ফটোরেসিস্ট বেক প্রক্রিয়ার সময় ০.৫°C এর মতো তাপমাত্রার পরিবর্তনই অনেক কিছুকে অকেজো করে দেয়। অবশিষ্ট আর্দ্রতা? এর ফলেই ওয়েফারে ত্রুটি দেখা দেয়—যেমন এডজ বিড, প্যাটার্ন কল্যাপস ইত্যাদি। এসব ত্রুটি পরে ধরা পড়ে; কিন্তু এর ফলে প্রাথমিক পর্যায়েই ঝামেলা হয়। আমরা ওয়েফার থেকে আর্দ্রতা অপসারণের জন্য একটি বিশেষ ল্যাম্প তৈরি করেছি; যাতে ওয়েফার যেখানে তাপ গ্রহণ করে, সেখানেই এই সমস্যাগুলো দূর হয়।
প্রযুক্তিগতভাবে কী গুরুত্বপূর্ণ?
এটি শর্ট-ওয়েভ ইনফ্রারেড কোয়ার্টজ-হ্যালোজেন ডিজাইন; দ্রুত ও সঠিকভাবে ওয়েফারকে উত্তপ্ত করার জন্য এটি ডিজাইন করা হয়েছে। ওয়েফারের সর্বত্র তাপমাত্রা ±০.১°C এর মধ্যেই থাকে; আর পুনরাবৃত্তি হওয়ার হারও নির্দিষ্ট থাকে। এটি ক্লাস ১–১০০ ধরনের ক্লিনরুমে ব্যবহৃত হয়; এখানে অপটিক্যাল পাথটি সীলড থাকে এবং কম গ্যাস নির্গমন হয়, যাতে কণার পরিমাণ বৃদ্ধি না পায়। ৫,০০০+ ঘন্টা ধরে এটি স্থিতিশীলভাবে কাজ করে; তাপমাত্রা ৫% এরও কম হ্রাস পায়। ফলে তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ সহজ হয়।
কেন এটি কার্যকর?
এই যন্ত্রটি বেক প্রক্রিয়ার আগে ও চলাকালীন আর্দ্রতা অপসারণ করে। এটি সফট বেক ও হার্ড বেক উভয় ক্ষেত্রেই কাজ করে। প্রতিক্রিয়া দ্রুত হওয়ায় সময় কমে যায়; আর গুরুত্বপূর্ণ মাপগুলো নির্দিষ্ট মানের মধ্যেই থাকে। ফলে CD নিয়ন্ত্রণ ভালো হয়, পুনরায় কাজ করার প্রয়োজন কমে যায়, আর প্রক্রিয়াগত ত্রুটি দূর করতে কম শক্তি ব্যয় হয়। এটি আন্তর্জাতিক সেমিকন্ডাক্টর সরঞ্জাম মানদণ্ড অনুযায়ী ডিজাইন করা হয়েছে; আর এটি ব্যবহার করার জন্য পুরো লাইনটিকে পুনরায় যোগ্য করার দরকার নেই।
কিছু ব্যবহারিক নির্দেশনা:
ইনস্টলেশনের সময় টুলের ইন্টারফেস, পাওয়ার বাস ও ইন্টারলকগুলোকে আপনার বর্তমান বেক স্টেশনের সাথে মেলানো দরকার। অপটিক্যাল অংশগুলোকে পরিষ্কার রাখুন; আর থার্মাল লোডকে চেম্বারের ডিজাইনের সাথে মেলান। নইলে উচ্চ পাওয়ারে কাজ করার সময় তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ করা কঠিন হয়ে যাবে। প্রতিরোধমূলক রক্ষণাবেক্ষণের সময়েই এটি ব্যবহার করুন; আর সেটপয়েন্টগুলোকে আপনার ফটোরেসিস্ট রাসায়নিক উপাদান ও ফিল্ম স্ট্যাক অনুযায়ী সামঞ্জস্য করুন।