फैब फ्लोर पर, फोटोरेजिस्ट को गर्म करने की प्रक्रिया में 0.5°C का अंतर भी बहुत बड़ी समस्या बन सकता है; ऐसी स्थिति में बना उत्पाद बेकार हो जाता है। शेष नमी के कारण ही वेफर पर दोष पैदा होते हैं… ऐसे दोषों के कारण उत्पादन में देरी होती है, और इससे नुकसान भी होता है। हमने वेफर से नमी हटाने हेतु विशेष उपकरण विकसित किए हैं… ताकि वेफर को गर्म करने की प्रक्रिया में ऐसी समस्याओं को दूर किया जा सके।
तकनीकी दृष्टि से क्या महत्वपूर्ण है?
यह एक शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड क्वार्ट्ज-हैलोजन डिज़ाइन है… जो तेज़ एवं सतह-केंद्रित तापन हेतु उपयुक्त है। वेफर पर तापमान की समानता ±0.1°C के भीतर ही रहती है… एवं प्रत्येक बैच में इसकी एकरूपता लगातार बनी रहती है। यह उपकरण क्लास 1–100 के क्लीनरूमों में ही कार्य करता है… एवं इसमें सील्ड ऑप्टिकल पथ एवं कम गैस उत्सर्जन वाली सामग्रियों का उपयोग किया गया है… ताकि कणों की संख्या बढ़ने से बचा जा सके। 5,000+ घंटों तक इसका प्रदर्शन स्थिर रहता है… एवं तापमान में 5% से भी कम की कमी आती है… इससे उत्पादन प्रक्रिया में कोई बाधा नहीं आती।
यह क्यों कारगर है?
यह उपकरण, वेफर को गर्म करने से पहले एवं उस दौरान ही नमी हटाने में मदद करता है… एवं यह “सॉफ्ट बेक” एवं “हार्ड बेक” दोनों प्रक्रियाओं में भी कार्य करता है। इसकी प्रतिक्रिया तेज़ है… इसलिए वेफर को गर्म करने में लगने वाला समय कम हो जाता है… एवं महत्वपूर्ण आयाम भी निर्धारित मानों के भीतर ही रहते हैं। इससे उत्पादन प्रक्रिया में दोबारा काम करने की आवश्यकता कम हो जाती है… एवं ऊर्जा की भी बचत होती है। यह उपकरण अंतरराष्ट्रीय सेमीकंडक्टर उपकरण मानकों के अनुरूप ही डिज़ाइन किया गया है… एवं इसे लगाने से पूरी उत्पादन लाइन को पुनः परीक्षण करने की आवश्यकता नहीं पड़ती।
कुछ व्यावहारिक बातें:
इस उपकरण को लगाते समय, इसके इंटरफेस, पावर बस एवं इंटरलॉक सिस्टम को आपकी मौजूदा उत्पादन प्रणाली के अनुरूप ही सेट करना होगा। ऑप्टिकल घटकों को साफ रखें… एवं चैंबर के डिज़ाइन के अनुरूक ही तापमान सेट करें… वरना उच्च ऊर्जा के कारण तापमान में असमानता आ सकती है। उत्पादन प्रक्रिया में बदलाव करते समय, फोटोरेजिस्ट की रासायनिक संरचना एवं फिल्म स्टैक के अनुरूक ही सेटिंग्स सेट करें।