Di area proses pembakaran tersebut, kondisi “soft bake” dan “hard bake” bukanlah kondisi yang ideal untuk mendapatkan hasil yang berkualitas. Perubahan suhu sebesar dua derajat saja sudah cukup untuk mengubah dimensi-dimensi kritis produk tersebut. Selain itu, adanya partikel-partikel kecil dapat merusak seluruh batch produk yang diproses. Kita menggunakan lampu pemanas inframerah berbentuk tabung ganda agar proses pemanasan berjalan secara efektif sesuai dengan standar yang dituntut.
Yang penting dalam desain ini adalah fokus sinar inframerah ke area yang sempit, sehingga pemanasan berlangsung cepat dan efisien, dengan minimal gangguan termal. Di permukaan wafer, tingkat keseragaman suhu tetap berada dalam kisaran ±0,1°C. Hal ini memungkinkan proses pengeringan bahan fotoresist berjalan secara konsisten dari satu batch ke batch lainnya.
Desain ruang bersih juga sangat penting. Penggunaan kemasan kuarsa dan sistem penutup yang rapat membantu mengendalikan jumlah partikel di udara. Lampu-lampu tersebut tidak mengeluarkan gas apa pun selama proses pemanasan berlangsung. Intensitas cahaya tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan deviasi intensitas kurang dari 5%. Dengan demikian, kondisi termal tetap konsisten di seluruh unit litografi.
Alasan mengapa hal ini berhasil dalam praktiknya sangat sederhana. Repeatabilitas proses “soft bake” yang tinggi mengurangi variasi ketebalan lapisan material pada wafer, sehingga permukaan wafer menjadi lebih rata. Konsistensi proses “hard bake” mengurangi kebutuhan akan perbaikan ulang, sehingga meningkatkan tingkat produksi. Proses pemanasan yang cepat mempersingkat waktu siklus produksi, tanpa mengorbankan akurasi suhu. Sinar inframerah yang terfokus juga mengurangi konsumsi energi, sehingga biaya produksi per wafer menjadi lebih rendah. Di fasilitas produksi skala besar, keandalan ini berarti pengurangan waktu henti produksi dan waktu perawatan yang dapat direncanakan dengan baik.
Berikut adalah hal-hal yang perlu diperhatikan saat pemasangan. Penyetelan optik harus dilakukan dengan tepat, dan diperlukan sumber daya listrik yang terisolasi agar tidak menyebabkan gangguan elektromagnetik di tahapan-tahapan proses lainnya. Lampu-lampu tersebut akan berfungsi optimal jika digunakan bersama reflektor yang sesuai, serta dikendalikan oleh alat pengukur suhu bertipe loop tertutup. Jika reflektor diganti tanpa melakukan kalibrasi ulang, tingkat keseragaman suhu bisa berubah sebesar 0,2–0,3°C.
Setelah lampu diganti, lakukan proses “burn-in” singkat dan kalibrasi ulang untuk mengembalikan tingkat keseragaman suhu ke kisaran ±0,1°C.