Perché il riscaldamento a irraggiamento infrarosso è migliore del riscaldamento ad aria calda per le attività di lavorazione dei wafer
Se state pensando di passare dal riscaldamento ad aria calda a quello a irraggiamento infrarosso nelle vostre operazioni di lavorazione avanzata, non consideratelo semplicemente come un miglioramento tecnologico. Pensate piuttosto a come ottenere più tempo per svolgere il lavoro.
L’aria calda funziona lentamente: si basa sul principio della convezione, il che significa che l’aria viene riscaldata e poi si spera che essa riesca a riscaldare anche il wafer. C’è sempre un ritardo nel processo di riscaldamento. Il riscaldamento a irraggiamento infrarosso invece funziona in modo diverso: utilizza energia radiante per riscaldare direttamente il substrato.
È veloce. Molto veloce.
Quando si utilizza l’aria calda, bisogna combattere l’inerzia termica: bisogna aspettare che tutta la camera raggiunga una certa temperatura prima che il wafer possa stabilizzarsi. È un processo lento.
Con le lampade a irraggiamento infrarosso, invece, la risposta è quasi istantanea. Ecco perché viene utilizzato spesso nei processi di riscaldamento rapido. Si evita così il problema legato al ritardo nel riscaldamento. In questo modo, quel “tempo di attesa” che rallenta l’intero processo di produzione scompare completamente.
Un altro vantaggio è la costanza del riscaldamento. Con la convezione ci sono punti freddi o, peggio ancora, turbolenze che possono causare movimenti del wafer. Il riscaldamento a irraggiamento infrarosso permette di controllare precisi punti di riscaldamento. Poiché possiamo controllare singole lampade, possiamo eliminare quei problemi legati alla perdita di calore ai bordi del wafer. In questo modo, il profilo termico risulta uniforme su tutta la superficie del wafer.
Tuttavia, non basta semplicemente montare una lampada a irraggiamento infrarosso in un sistema di riscaldamento tradizionale. È necessario calcolare correttamente il carico termico generato da tutti gli elementi presenti nell’ambiente di lavoro.
Comunque, per chi cerca di aumentare il numero di wafer prodotti all’ora nella propria sala pulita, il riscaldamento a irraggiamento infrarosso è la soluzione ideale. Consente infatti di sostituire un processo lento e inefficiente con uno molto più preciso.