바닥면에서 RTP 히터의 온도가 일정하지 않아지면, 웨이퍼 전체의 온도도 계속 변동합니다. 약간의 온도 변동만으로도 포토레지스트의 성능에 영향을 미칩니다. 너무 높거나 낮은 온도에서의 가열은 CD의 정밀도를 떨어뜨립니다. 그 결과, 폐기물이 발생하고 재작업이 필요해지며, 회복할 수 없는 에너지 손실도 생깁니다.
실제로 중요한 것은 무엇인가? 우리는 전체 공정 동안 웨이퍼 전체의 온도가 ±0.1°C 이내로 일정하도록 RTP 히터를 설계했습니다. 할로겐 단파 램프를 사용하면 빠르고 반복 가능한 가열 과정을 실현할 수 있으며, 온도 조절도 정확하게 이루어집니다. 석영 구조와 낮은 가스 방출량을 가진 소재들 덕분에 클래스 1–100급 청정실 내에서 입자 수가 안정적으로 유지됩니다. 또한 탄소섬유 절연체 덕분에 에너지 소비가 줄어들면서도 열 저장량은 증가하지 않습니다. 이 히터는 표준화된 연결 부품을 통해 기존의 챔버 및 제어 장치와 연동될 수 있어, 열 분포가 정확하게 유지됩니다.
이러한 설계 덕분에 리소그래피 및 에칭 공정에서도 안정적인 성능을 발휘할 수 있습니다. 온도는 공정 중에만 측정 가능한 변수입니다. 이 히터를 사용하면 부드러운 가열과 강력한 가열 과정에서도 온도가 안정적으로 유지되며, CD의 균일성도 향상됩니다. 또한 필름의 응력도 규격 범위 내에 있습니다. 로트 간의 반복성이 높아져 검증 과정이 단축되고, 일정관리도 더욱 정확해집니다. 이 시스템은 24/7으로 작동하며, 램프의 수명은 5,000시간 이상입니다. 따라서 예비 부품의 필요성이 줄어들고, 유지보수 비용도 절감됩니다.
설치 시에는 챔버의 형태에 맞게 히터를 배치하고, 램프 배열이 웨이퍼 평면과 정렬되는지 확인해야 합니다. 아주 작은 오차라도 가장자리와 중심부의 불균형을 초래할 수 있습니다. 포토레지스트 스택에 맞는 가열 속도와 시간을 다시 조정하기 위해 짧은 검증 과정을 거쳐야 합니다. ±0.1°C의 온도를 유지하기 위해서는 냉각 장치와의 조율이 필요합니다. 저희는 인터페이스 도면과 열 분포 데이터를 제공하여 원활한 교체 작업을 도와드립니다.