팹에서는 포토레지스트를 가열하는 과정에서 0.5°C만큼의 온도 변동이 생겨도 많은 양의 웨이퍼가 폐기물이 되어버립니다. 잔여 수분도 문제인데, 이로 인해 웨이퍼 표면에 결함이 생기거나 패턴이 망가질 수 있습니다. 이러한 결함들은 나중에야 발견되지만, 그로 인한 손실은 막대합니다. 저희는 웨이퍼와 열원이 만나는 지점에서 이러한 변수들을 제거하기 위해 특별한 건조 장치를 개발했습니다.
기술적으로 중요한 점들 이 장치는 단파 적외선 광학 시스템을 사용하여 빠르고 효과적으로 표면을 가열합니다. 웨이퍼 전체의 온도 균일성은 ±0.1°C 이내를 유지하며, 반복성도 일관적입니다. 이 장치는 Class 1–100 등급의 청정실에서 사용될 수 있으며, 밀폐된 광학 경로와 낮은 가스 방출량을 자랑하는 재료를 사용하여 입자 수를 최소화합니다. 5,000시간 이상 사용해도 성능이 5% 미만으로만 감소하기 때문에, 교대 근무 시에도 온도 조절에 문제가 없습니다.
왜 이 장치가 효과적인가? 이 장치는 가열 전후에 수분을 제거해주며, 소프트 베이크와 하드 베이크 모두에 적합합니다. 반응 속도가 빠르기 때문에 처리 시간이 줄어들고, 중요한 치수들도 규격 내에 유지됩니다. 그 결과, 제품의 품질이 향상되고, 재작업도 줄어들며, 공정 변동으로 인한 에너지 소비도 줄어듭니다. 이 장치는 국제적인 반도체 장비 표준에 부합하도록 설계되었으며, 기존 장비와 호환되어 별도의 재인증이 필요하지 않습니다.
몇 가지 실용적인 팁 장치를 설치할 때는 기존의 가열 장비와 인터페이스, 전력 공급 시스템을 잘 맞춰야 합니다. 광학 부품을 깨끗하게 유지하고, 챔버의 설계에 맞게 열 부하를 조절해야 합니다. 그렇지 않으면 높은 출력으로 작동할 때 온도 균일성이 떨어질 수 있습니다. 교체 작업은 정기적인 점검 시기에 진행해야 하며, 설정값은 포토레지스트의 종류와 필름 구조에 맞게 조절해야 합니다.