Pada garis panjang 300mm, had suhu yang boleh dicapai bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia merupakan had yang tidak boleh dilanggar. Jika terjadi perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pemanggangan, ia akan dapat dilihat dalam profil fotorezist. Jika suhu pemanggangan tidak mencapai nilai yang ditetapkan, hasilnya ialah permukaan yang tidak rata setelah proses pengolahan selesai. Kami merancang pemanas ini untuk menghadapi realiti ini, kerana di fasiliti pembuatan, setiap minit masa henti yang tidak dirancangkan akan menjejaskan kualiti produk yang dihasilkan.
Apa yang penting dari segi teknikal
Kami memastikan keseragaman suhu pada tahap wafer pada tahap ±0.1°C sepanjang proses pemanggangan. Kelajuan perubahan suhu juga dikawal dengan ketat agar sesuai dengan spesifikasi yang ditetapkan. Bilik pemprosesan menggunakan elemen inframerah gelombang pendek bersama sistem pengasingan kuarsa, supaya tiada zarah kotoran yang terbentuk. Jumlah zarah kotoran di bilik pemprosesan kekal stabil pada tahap Class 1–100.
Repetibiliti proses juga dijamin melalui sistem kawalan yang digunakan; nilai tetapan dan profil suhu tetap sama dari satu batch ke batch yang lain.
Mengapa ia berkesan dalam proses litografi
Dalam proses litografi, pemanggangan yang konsisten sangat penting untuk memastikan dimensi dan sudut sisi yang betul. Pemanas ini mampu mengekalkan nilai tetapan suhu walaupun beroperasi 24/7. Sepanjang tahun-tahun penggunaannya, kami tidak mengalami sebarang masa henti yang tidak dirancangkan.
Ini bermakna jumlah wafer yang rosak berkurangan, begitu juga dengan jumlah wafer yang perlu diproses semula. Masa yang diperlukan untuk proses pemprosesan juga tetap stabil. Reka bentuk pemanas ini efisien – dengan kombinasi elemen yang tepat dan jisim haba yang rendah – sehingga penggunaan tenaga dapat dikurangkan tanpa mengorbankan respons suhu yang baik.
Beberapa nota praktikal
Unit pemanas ini boleh digunakan dalam sistem pemprosesan biasa, tetapi perlu disesuaikan agar keserasian termalnya dengan plat pemprosesan dan antaramuka mekanikal alat tersebut terjadi. Lakukan ujian awal untuk menyesuaikan nilai PID agar sesuai dengan jenis wafer yang digunakan.
Setelah nilai-nilai tersebut disesuaikan, proses pemprosesan akan berjalan dengan lancar.