Op de productielijn kan een verschil van 0,5°C tijdens het verhitten van de fotoresist ertoe leiden dat veel producten niet meer bruikbaar zijn. Residuele vochtigheid? Dat zorgt voor defecten als oneffenheden op het oppervlak en problemen met het patroon – defecten die pas later worden ontdekt, maar al vroeg kosten veroorzaken. We hebben onze lamp ontworpen om deze variabelen weg te nemen, precies op de plek waar de wafer in contact komt met de hitte.
Wat technisch belangrijk is
Het gaat om een kortegolf-infraroodquartz-halogeenontwerp, ontworpen voor snel en effectief verhitten van het oppervlak van de wafer. De thermische uniformiteit blijft binnen ±0,1°C, en de reproduceerbaarheid wordt gemeten per lading – niet op basis van geruchten. De lamp kan worden gebruikt in zuiverruimtes van klasse 1–100. Er wordt gebruik gemaakt van gesloten optische pathways en materialen met lage uitstoot, zodat er geen storingen optreden. De prestaties blijven stabiel gedurende meer dan 5.000 uur; de daling van de prestaties is minder dan 5%. Hierdoor blijft de thermische controle consistent, zelfs tussen verschillende schichten.
Waarom het werkt waar het nodig is
Deze lamp verwijdert vocht eerder en tijdens het verhitten van de wafer. Hij is geschikt voor zowel zachte als harde verhittingsschema’s. De reactietijd is kort, waardoor de tijd die nodig is voor het verhitten van de wafer wordt verkort. Hierdoor blijven de cruciale afmetingen binnen de vereiste grenzen. U krijgt betere controle over de afmetingen, minder herwerkingswerkzaamheden en minder energieverbruik. Het ontwerp is in overeenstemming met internationale standaarden voor halfgeleiderapparatuur, zodat het gemakkelijk kan worden geïntegreerd zonder dat u de hele productielijn opnieuw hoeft te kalibreren.
Enkele praktische tips
Tijdens de installatie moet de interface van de lamp worden aangepast aan uw bestaande apparatuur. Zorg ervoor dat de optica schoon blijft en dat de thermische belasting overeenkomt met het ontwerp van de kamer. Plan de vervanging van de lamp tijdens een onderhoudsbeurt, en stel de instellingen in overeenstemming met de chemische samenstelling van de fotoresist en de dikte van de filmlaag.