Na linii produkcyjnej odchylenie temperatury o 0,5°C podczas procesu wysuszania fotorezystu może doprowadzić do tego, że duża ilość produktów stanie się bezużyteczna. Pozostała wilgoć? To właśnie ona powoduje powstawanie różnych defektów – takich jak nierówności na powierzchni płytki czy jej deformacja. Te defekty pokazują się w późniejszym etapie produkcji, ale już teraz mogą przynieść straty. Stworzyliśmy specjalną lampę do usuwania wilgoci z płytek, aby eliminować ten problem dokładnie w tym miejscu, gdzie płytka styka się z ciepłem.
Co jest istotne z technicznego punktu widzenia
Jest to urządzenie typu kwarcowo-halogenuzowego o krótkich falach podczerwieni, zaprojektowane do szybkiego ogrzewania powierzchni płytki. Równomierność temperatury na całej powierzchni płytki wynosi ±0,1°C, a powtarzalność procesu jest kontrolowana dla każdej partii produktu. Urządzenie może być używane w pomieszczeniach klasy czystości 1–100, dzięki zamkniętemu obwodowi optycznemu oraz materiałom o niskiej emisji gazów, co zapobiega wzrostowi liczby cząstek w powietrzu. Wydajność urządzenia pozostaje stała przez ponad 5 000 godzin pracy, z odchyleniem mniejszym niż 5%, więc parametry termiczne nie zmieniają się w trakcie różnych zmian zmiany produkcji.
Dlaczego to urządzenie jest skuteczne tam, gdzie to najważniejsze
Urządzenie usunuje wilgoć przed i w trakcie procesu wysuszania, a także umożliwia stosowanie zarówno łagodnego, jak i intensywnego procesu wysuszania, przy tym zapewnia przewidywalne profile temperatury. Reakcja urządzenia jest szybka, więc czas procesu skraca się, a krytyczne wymiary płytki pozostają w normie. Dzięki temu uzyskujemy lepszą kontrolę nad wymiarami płytki, mniej konieczności poprawek oraz mniej energii zużywanej na kompensację odchyleń w procesie produkcji. Urządzenie zostało zaprojektowane zgodnie z międzynarodowymi standardami sprzętu do produkcji półprzewodników, a jego integracja nie wymaga ponownej kalibracji całej linii produkcyjnej.
Kilka praktycznych uwag
Podczas instalacji należy dostosować interfejs urządzenia, źródło zasilania oraz mechanizmy bezpieczeństwa do istniejącej stacji wysuszania. Należy też utrzymywać czystość elementów optycznych oraz dostosować obciążenie termiczne do specyfikacji komory, w przeciwnym razie może dojść do odchyleń w równomierności temperatury podczas pracy przy wyższym natężeniu mocy. Zmianę urządzenia należy planować w okresie przeglądu konserwacyjnego, a ustawienia urządzenia należy dostosować do specyfikacji fotorezystu i warstw materiałowych użytych w procesie produkcji.