Litografide, yumuşak pişirme veya sert pişirme işlemleri sırasında meydana gelen yarım derecelik sapmalar, tablolardaki sayılar olarak görünmez. Bu sapmalar, çizgi genişliklerinde değişiklikler, zayıf yapışma ve aşındırma sonrasında verimlilikte düşüş şeklinde kendini gösterir. Biz de bu tür değişkenlikleri ortadan kaldırmak için fotoresist pişirme lambalarını geliştirdik; böylece her wafer için işlem standartlarda kalır.
Arka planda önemli olan şeyler
Sıkı spektral kontrolü olan NIR vericiler kullanarak fotoresisti doğrudan ısıtıyoruz. Bu sayede substratın tepki süresi azalır ve daha hızlı, daha düzenli bir ısıl tepki elde edilir. Pişirme bölgesinde waferler arasındaki uyumluluk ±0,1°C civarında olur ve binlerce döngü boyunca tekrarlanabilirlik aynı toleranslar içinde kalır. Bu cihazlar Class 1–100 temiz oda koşullarına uygundur ve arayüzde hiçbir parçacık oluşmadığından emin oluyoruz. Cihaz, 24/7 çalışacak şekilde tasarlanmıştır; saha üniteleri 5.000 saatten fazla çalışabilir ve verimlilik sabit kalır.
Fotoresist işlemlerinde bunun neden önemli olduğu
Yumuşak pişirme, viskoziteyi stabil hale getirmek ve çözücüleri uzaklaştırmak içindir; sert pişirme ise aşındırma öncesinde filmin sabitlenmesini sağlar. Bu lamba sayesinde tüm partiler için tutarlı pişirme profilleri elde edilir; böylece kusurlar ve yeniden işleme ihtiyacı azalır. Sonuç olarak daha iyi film bütünlüğü ve tahmin edilebilir bir aşındırma süreci elde edilir. Isıl düzeltme hızlı olur ve aşırı ısınma minimum seviyede kalır; böylece enerji tüketimi azalır. Uzun lamba ömrü ise daha az yedek parça ve bakım gerektirir.
Pratik detaylar
Bu lambalar standart kaplama/pişirme sistemlerine kolayca entegre edilebilir; ancak kurulum sırasında wafer yolunu ve pişirme odasının geometrisini doğru şekilde ayarlamanız gerekir. Belirli bir formül için bekleme süresi, yoğunluk ve sıcaklık değerlerini ayarlamak için kısa bir test süreci gereklidir. Belirlenen voltaj aralığında kalın; bu aralığın dışına çıkılırsa uyumluluk ve lambanın ömrü hızla azalır.