<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Soft on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/bn/tags/soft/</link>
		<description>Recent content in Soft on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>bn</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 04:52:37 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/bn/tags/soft/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>ফটোরেসিস্ট সফট বেক ল্যাম্প</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/bn/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 04:52:37 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/bn/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;ফটোরেসিস্ট সফট বেক ল্যাম্প&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;লিথোগ্রাফি প্রক্রিয়ায়, “সফট বেক” প্রক্রিয়াটিকে কেবলমাত্র উষ্ণীকরণ প্রক্রিয়া হিসেবে বিবেচনা করা উচিত নয়। এটা আসলে একটি তাপীয় প্রক্রিয়া; এর মাধ্যমে সলভেন্টের পরিমাণ নিয়ন্ত্রিত হয় এবং ফটোরেজিস্টের আঠালো অবস্থা বজায় থাকে। যদি ওয়েফারের তাপমাত্রায় ১°C এর ব্যবধান থাকে, অথবা ল্যাম্পের আলোক বণ্টনে কোনো অসামঞ্জস্য থাকে, তাহলে ওয়েফারের আকার নিয়ন্ত্রণ করা কঠিন হয়ে যায়। ফলে ত্রুটিগুলো বৃদ্ধি পায়।&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;প্রযুক্তিগতভাবে কী গুরুত্বপূর্ণ?&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;আমরা “সফট বেক” প্রক্রিয়ার জন্য NIR ল্যাম্প ব্যবহার করি; কারণ এগুলো তাপীয় ক্ষেত্রে উপ-মিলিমিটার স্তরে সমানতা নিশ্চিত করে। কোয়ার্টজ-হ্যালোজেন ইমিটার এবং রিফ্লেক্টরগুলো এমনভাবে ডিজাইন করা হয়েছে যাতে তাপীয় প্রভাবগুলো ওয়েফারের উপরই পড়ে, হিটারের উপর নয়। ফলে ওয়েফারের তাপমাত্রা ±0.1°C এর মধ্যেই থাকে; আর ল্যাম্পের আউটপুট স্থিতিশীল থাকার কারণে প্রক্রিয়াটি পুনরাবৃত্তি করা সম্ভব হয়।&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
