http://ir-heat-co.com/cs/tags/bake/ Recent content in Bake on The Infrared Heating Company Hugo cs Wed, 01 Jul 2026 12:33:47 +0800 http://ir-heat-co.com/cs/posts/polyimide-bake-infrared-lamp/ Wed, 01 Jul 2026 12:33:47 +0800 http://ir-heat-co.com/cs/posts/polyimide-bake-infrared-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-co.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Infrakřová lampa pro vypalování polyimidu"></p> <p>V prostředí litografie nepřežije polyimidový fotorezistent takovou míru kontroly teploty, jakou lze dosáhnout pomocí běžných lamp. Mírné zahřívání, které se odchýlí byť jen o půl stupně, způsobí změnu tloušťky fotorezistoru. Naopak přehnané zahřívání zanechá po procesu leptání nežádoucí sedimenty. Potřebujete tedy teplo, kterému můžete věřit – rychlé zahřátí, vysokou opakovatelnost a zařízení, které funguje v čisté místnosti bez uvolňování částic do prostředí.</p> <p>Zde jsou důležité detaily: Naše infračervené lampy určené k zahřívání polyimidu využívají emitery krátkovlnného světla naladěné na absorpci světla polyimidem. To umožňuje rychlé, bezkontaktní zahřívání s nízkou termickou setrvačností. Jednotnost teploty na povrchu polovodičové desky zůstává v rozmezí ±0,1 °C, zatímco opakovatelnost mezi jednotlivými cykly je v rozmezí ±0,2 °C. Tyto lampy fungují v čistých místnostech třídy 1–100 bez vzniku jakýchkoliv částic, což je ověřeno přímo v provozu. Výkon lamp zůstává stabilní po dobu více než 5 000 hodin, s poklesem menším než 5 %. Systém je navržen pro nepřetržitý provoz 24/7 s kontrolovaným chlazením, které zachovává termickou rovnováhu.</p> http://ir-heat-co.com/cs/posts/photoresist-soft-bake-lamp/ Fri, 26 Jun 2026 04:52:39 +0800 http://ir-heat-co.com/cs/posts/photoresist-soft-bake-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-co.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Lampa na jemné zahřívání fotorezistoru"></p> <p>V prostředí lithografie byste neměli považovat proces měkkého zahřívání za pouhou pří<a href="https://o-yate.net">pravnou</a> fázi. Jde o tepelný krok, který zajišťuje konzistentní obsah rozpouštědla v fotorezistu a zvyšuje jeho přilnavost k povrchu waferu. I drobná odchylka o 1 °C v teplotě waferu – nebo chladná oblast na povrchu waferu – může vést ke ztrátě kontroly nad rozměry waferu. Zvýší se tak nerovnosti v tloušťce vrstvy fotorezistu a objeví se defekty.</p> <p><strong>Co je technicky důležité</strong><br> Používáme lampy s infračerveným zářením pro proces měkkého zahřívání, protože umožňují dosáhnout podmillimetrové úrovně rovnoměrnosti v tepelném poli. Geometrie emitorů a reflektorů je navržena tak, aby tepelný profil odpovídal tvaru waferu, a ne topnému zařízení. Na povrchu waferu lze udržet rovnoměrnost teploty na úrovni ±0,1 °C. Opakovatelnost procesu zůstává vysoká, protože výkon lampy je stabilní a tepelný profil je reprodukovatelný.</p>