Jak využít proces vytvrzování čipů co nejlépe Při vytvrzování čipů je cíl jednoduchý: přivést na substrát co nejvíce tepla. Nechcete přece plýtvat...

Zastavte prach: Proč jsou zlatě pokryté IR lampy opravdu důležité V provozu s vysokou kapacitou je selhání lampy noční můrou. Nejde jen o výměnu...

Správné řízení teploty při výrobě biosenzorů Při výrobě biosenzorů je teplota zásadní. Potřebujete, aby polymery ztuhly a substráty se stabilizovaly....

Proč jsou zlatě potažené dvoutrubkové infračervené lampy opravdu důležité pro vaši továrnu Pokud budujete chytrou továrnu, víte, o co jde. Zdroj...

Jak udržet lampy v čisté místnosti v bezpečí (a vaše pracovní prostředí čisté) Když pracujete v čisté místnosti, nemůžete si dovolit žádné chyby. I...

Když pracujete v čisté místnosti třídy 100, ohřev je opravdu velký problém. Nejde jen o to zahřát prostor – jde také o to udržet vzduch bezchybně...

Udržování čistoty: Pravda o UVL kvartových infračervených lampách Pokud provozujete čistou místnost třídy 100, určitě znáte výzvy spojené s jejím...

Zastavení kontaminace polovodičových destiček ještě předtím, než začne V provozech s vysokou kapacitou představuje prasknutí žárovky opravdu velký...

Proč skleněný kryt vaší lampy není jen prostým tepelným ochráncem Většina lidí považuje skleněné kryty v lampách za pouhou tepelnou bariéru. Ve...

V prostředí litografie neznamená půl stupně posunu během měkkého nebo tvrdého zahřívání jen číslo v tabulce. Projevuje se to jako variace tloušťky...

V prostředí litografie nepřežije polyimidový fotorezistent takovou míru kontroly teploty, jakou lze dosáhnout pomocí běžných lamp. Mírné zahřívání,...

V prostředí lithografie byste neměli považovat proces měkkého zahřívání za pouhou přípravnou fázi. Jde o tepelný krok, který zajišťuje konzistentní...

V procesu litografie není odchylka o 2 °C během vysoušení fotorezistu jen náhodnou variací – jedná se o přímou cestu k defektům na čipu. Fáze...

V prostorách určených k vypalování nejsou „místa na krásný vzhled“. I drobná odchylka o dva stupně může změnit kritické rozměry produktů, zatímco...

V provozu výroby představuje odchylka o 0,5 °C během zahřívání fotorezistentu důvod k tomu, že velké množství výrobků končí jako odpad. Zbytková...

Na výrobní hale se tepelný posun neoznačuje varovnou nálepkou. Projeví se jako odchylka šířky čáry na trace, zbytkový okraj po vyčištění nebo...

Na výrobní podlaze je 300mm wafer naplněn tisíci die a termální rozpočet je posvátný. Odchylka 2 °C během měkkého pečení fotoresistu nebo spike...