<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>MEMS on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/cs/tags/mems/</link>
		<description>Recent content in MEMS on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 21 Jul 2026 09:26:29 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/cs/tags/mems/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Ohřívač na sušení waferu senzoru MEMS</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/cs/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 21 Jul 2026 09:26:29 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/cs/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Ohřívač na sušení waferu senzoru MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;proč-používáme-zasychání-infračerveným-zářením-u-bezolovnatých-polovodičů&#34;&gt;Proč používáme zasychání infračerveným zářením u bezolovnatých polovodičů&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;Při výrobě senzorů typu MEMS rozhodně nechcete, aby substrát byl kontaminovaný. Potřebujete, aby čip byl suchý a čistý. Proto se spoléháme na zasychání infračerveným zářením. Tento proces odstraňuje vlhu a rozpouštědla bez potřeby použití složitých chemických přísad nebo katalyzátorů na bázi olova. Jednoduše jde o přímé využití energie k dosažení požadovaného efektu.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Jak to vlastně funguje&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Vezměte si běžnou konvekční troubu – ta zahřívá vzduch, a ten potom zahřívá čip. Je to pomalé. Infračervené záření je jiné – lampy působí přímo na molekuly vody nebo rozpouštědel na povrchu čipu. U senzorů typu MEMS používáme krátkovlnné infračervené záření. To rychle pronikne do povrchových vrstev, což způsobí rychlou odpařovací reakci. Nastartování procesu je tedy téměř okamžité. To je velká výhoda, protože zabrání problému „suchého povrchu“ – situaci, kdy se horní vrstva příliš rychle vysuší a rozpouštědla zůstanou pod ní.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
