<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Removal on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/cs/tags/removal/</link>
		<description>Recent content in Removal on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 23:26:53 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/cs/tags/removal/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampa na odstraňování vlhkosti z waferů</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/cs/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 23:26:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/cs/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Lampa na odstraňování vlhkosti z waferů&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;V provozu výroby představuje odchylka o 0,5 °C během zahřívání fotorezistentu důvod k tomu, že velké množství výrobků končí jako odpad. Zbytková vlhkost? To zase způsobuje vznik vad typu nerovnoměrného pokrytí povrchu nebo kolapsu vzoru – vad, které se projeví až v pozdější fázi a způsobí vám ztráty již v počáteční fázi výroby. Naši lampa na odstraňování vlhkosti z waferů je navržena tak, aby tuto proměnnou eliminovala právě tam, kde se wafer setkává s teplem.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
