http://ir-heat-co.com/de/tags/china/ Recent content in China on The Infrared Heating Company Hugo de Sun, 28 Jun 2026 05:30:21 +0800 http://ir-heat-co.com/de/posts/semiconductor-heater-components-china/ Sun, 28 Jun 2026 05:30:21 +0800 http://ir-heat-co.com/de/posts/semiconductor-heater-components-china/ <p><img src="http://ir-heat-co.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Halbleiterheizkomponenten China"></p> <p>Auf der Wafer-Fertigungsebene lernt man schnell: Eine Abweichung von einem halben Grad in der Backtemperatur führt dazu, dass die kritischen Abmessungen der Wafer stark variieren. „Weicher“ und „harter“ Backvorgang sind nicht nur thermische Schritte – sie sind auch Schritte zur Sicherstellung der Genauigkeit. Wenn der Heizer keine ausreichende Homogenität und Wiederholgenauigkeit auf Waferebene gewährleisten kann, geht die Produktqualität verloren.</p> <p><strong>Was technisch wichtig ist:</strong> Wir fertigen die Heizelemente in China her – mit strenger thermischer Kontrolle. Das Ziel ist eine Homogenität von ±0,1 °C in der aktiven Zone sowie eine Wiederholgenauigkeit des Setpoints von ±0,5 °C. Die Heizelemente sind für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet. Die verwendeten Materialien und Verbindungen sorgen dafür, dass während des Betriebs keine Partikel entstehen.</p> http://ir-heat-co.com/de/posts/made-in-china-fab-heater-factory/ Thu, 18 Jun 2026 04:12:37 +0800 http://ir-heat-co.com/de/posts/made-in-china-fab-heater-factory/ <p><img src="http://ir-heat-co.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Hergestellt in einer Heizgerätefabrik in China"></p> <p>Bei der Lithografie reicht <a href="https://o-yate.com">bereits</a> eine Abweichung von 1 °C während des Weichbrennvorgangs aus, um die kritischen Dimensionen zu beeinträchtigen und somit die Produkte als unbrauchbar zu kennzeichnen. Es ist daher notwendig, eine genaue Temperaturkontrolle zu gewährleisten – Schicht für Schicht.</p> <p><strong>Was technisch wichtig ist:</strong> Unsere Heizgeräte sorgen dafür, dass die Temperatur auf der Wafer-Oberfläche innerhalb von ±0,1 °C konstant bleibt. Die Genauigkeit der Einstelltemperaturen beträgt ±0,5 °C. Die Heizgeräte können je nach Anforderungen mit Halogenstrahlung, Mittelwellen oder Kohlenstofffaser/NIR-Technologie betrieben werden – bei Spannungen zwischen 100 V und 480 V. Zudem passen sie sich den Eigenschaften der Beschichtungsplattformen, Waferträger sowie der Verpackungsanlagen an.</p>