Lampe zur Entfeuchtung von Wafern

Mon, 22 Jun 2026 23:26:53 +0800

In der Fertigungshalle führt eine Abweichung von 0,5 °C während des Trocknungsprozesses des Fotolacks dazu, dass viel Material als Schrott endet. Restfeuchtigkeit? Dadurch entstehen Defekte wie unregelmäßige Strukturen auf der Oberfläche oder ein Zusammenbruch des Musters – Defekte, die erst spät bemerkt werden und dennoch erhebliche Kosten verursachen. Wir haben unsere Lampe zur Entfernung der Feuchtigkeit so konstruiert, dass diese Variable aus dem Gleichgewicht gerät – genau an der Stelle, an der das Wafer mit der Wärme in Berührung kommt.

Feuchtigkeit on The Infrared Heating Company

Lampe zur Entfeuchtung von Wafern