Günstige Wäfer Trocknungs Lampe

Thu, 25 Jun 2026 04:37:49 +0800

Auf der Lithografieebene bedeutet eine Temperaturänderung von 2°C während des Trocknungsprozesses des Photoresists nicht nur eine Abweichung – es handelt sich dabei um einen direkten Weg zu Defekten im Bauteil. Die Trocknungs- und Backvorgänge müssen dem thermischen Budget des Prozesses entsprechen – und nicht dem Budget, das für die Wartung vorgesehen ist. Wir haben unsere Lampen so konstruiert, dass sie diesen Anforderungen entsprechen: geringe Kosten – aber keine Kompromisse bei der Präzision.

Was technisch wichtig ist:
Die Lampe verfügt über ein Halogenelement mit kurzwelligem Licht, das in einer Quarzkapsel untergebracht ist. Dadurch wird eine schnelle, stabile Infrarotstrahlung erzeugt – ideal für den Trocknungs- und Backvorgang. Die thermische Homogenität auf der Waferoberfläche liegt bei ±0,1°C, sodass die kritischen Abmessungen weiterhin innerhalb der Spezifikationen bleiben. Die Erzeugung von Partikeln ist nahezu null – dadurch bleibt die Reinheitsstufe in den Reinräumen bei den erforderlichen Werten. Die Lampe funktioniert mit Standardspannungen, passt in gängige Steckdosen und behält ihre Leistung über 5.000 Stunden hinweg bei – mit weniger als 5% Leistungsabfall.

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