<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Soft on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/fa/tags/soft/</link>
		<description>Recent content in Soft on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 04:52:37 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/fa/tags/soft/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>لامپ پخت ملایم فوتورزیست</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/fa/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 04:52:37 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/fa/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;لامپ پخت ملایم فوتورزیست&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در فرآیند لیتوگرافی، نباید از روش «خشک‌کردن ملایم» به عنوان یک مرحله آماده‌سازی استفاده کرد؛ زیرا این روش در واقع یک مرحله حرارتی است که باعث تثبیت میزان حلال موجود در سطح ویفر و همچنین تقویت چسبندگی فوتورزیست می‌شود. اگر دمای ویفر ۱ درجه سانتی‌گراد تغییر کند، یا در نقاط خاصی از سطح ویفر دما پایین‌تر باشد، کنترل ابعادی ویفر دچار مشکل خواهد شد؛ همچنین، ضخامت خطوط روی ویفر نیز افزایش خواهد یافت و نقص‌هایی نیز ایجاد خواهد شد.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
