Capteur on The Infrared Heating Company

Chauffage pour la fabrication de capteurs d hydrogène

Mon, 27 Jul 2026 06:40:35 +0800

Comment bien utiliser la technologie de séchage par infrarouges pour les capteurs d’hydrogène
Lors de la fabrication de capteurs d’hydrogène, c’est lors des étapes de séchage et de durcissement que tout peut fonctionner correctement ou échouer. Pour rester dans le cadre des exigences écologiques et éviter l’utilisation de plomb – ce qui est aujourd’hui une règle obligatoire dans le domaine des semi-conducteurs – on recourt au séchage par infrarouges.

Imaginez-le ainsi : un four de type conventionnel gaspille beaucoup de temps à chauffer l’air autour du composant à traiter. Avec les infrarouges, en revanche, l’énergie est transmise directement au substrat. Pas de solvants chimiques, pas d’émissions nocives. Seulement de la chaleur directe.

Emballage de capteur intelligent infrarouge

Tue, 21 Jul 2026 09:33:28 +0800

Pourquoi nous remplaçons l’air chaud par les rayons infrarouges dans emballage des semi-conducteurs
Si vous travaillez dans le domaine du traitement des capteurs intelligents, vous savez que le plus gros problème est généralement la vitesse de chauffage. Tout prend trop de temps. C’est pourquoi beaucoup d’entre nous abandonnent l’utilisation de l’air chaud au profit du chauffage par rayons infrarouges.

En réalité, il s’agit simplement de savoir comment le chauffage atteint la pièce à chauffer. L’air forcé est lent, car il faut d’abord chauffer l’air lui-même, ce qui prend du temps avant que celui-ci ne réchauffe la pièce elle-même. Les rayons infrarouges, eux, évitent cet intermédiaire : ils transmettent directement l’énergie au matériau à chauffer.

Chauffage de séchage de la wafer de capteur MEMS

Tue, 21 Jul 2026 09:26:29 +0800

Pourquoi utilisons-nous la cuisson par rayonnement infrarouge pour les semi-conducteurs sans plomb ?
Lors de la fabrication de capteurs MEMS, ce que l’on veut absolument éviter, c’est un substrat contaminé. Il est donc nécessaire que le wafer soit sec et propre. C’est pourquoi nous recourons à la cuisson par rayonnement infrarouge. Cette méthode permet d’éliminer l’humidité et les solvants, sans avoir recours à des additifs chimiques complexes ou à des catalyseurs contenant du plomb. C’est simplement l’énergie lumineuse qui sert à effectuer ce travail.

Capteur de température pour outil de wafer

Sun, 19 Jul 2026 15:43:35 +0800

Pourquoi la chauffage par rayonnement infrarouge est supérieur au chauffage par air chaud pour le traitement des wafer
Si vous envisagez de passer du chauffage par air chaud au chauffage par rayonnement infrarouge dans vos processus de traitement en profondeur, ne pensez pas simplement à obtenir un équipement « meilleur ». Pensez plutôt à gagner du temps.

L’air chaud est lent. Il utilise la convection, ce qui signifie que l’air est chauffé, et on espère alors que cet air chauffera le wafer. Il y a toujours un délai avant que le wafer ne commence à se stabiliser. Le chauffage par rayonnement infrarouge, lui, fonctionne différemment : il utilise de l’énergie radiante pour chauffer directement le substrat. C’est rapide. Vraiment rapide.