<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Chine on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/fr/tags/chine/</link>
		<description>Recent content in Chine on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 05:30:20 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/fr/tags/chine/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Composants chauffants à semi conducteurs Chine</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/fr/posts/semiconductor-heater-components-china/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 05:30:20 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/fr/posts/semiconductor-heater-components-china/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Composants chauffants à semi conducteurs Chine&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le sol de la salle de fabrication, on apprend rapidement : une déviation de demi-degré dans la température de séchage peut entraîner des variations importantes dans les dimensions critiques des wafers. Le séchage doux et le séchage intense ne sont pas simplement des étapes thermiques ; ce sont aussi des étapes permettant de maintenir des tolérances précises. Si le chauffage ne parvient pas à assurer une uniformité et une reproductibilité au niveau des wafers, alors le taux de production diminue.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Usine de chauffeurs fabriqués en Chine</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/fr/posts/made-in-china-fab-heater-factory/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:12:37 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/fr/posts/made-in-china-fab-heater-factory/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Usine de chauffeurs fabriqués en Chine&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le poste de lithographie, une déviation de 1 °C pendant le processus de séchage du photorésiste suffit pour modifier les dimensions critiques des composants, ce qui entraîne leur rejet. Il est donc nécessaire d’avoir un contrôle thermique précis, qui reste dans les limites prescrites, de cycle en cycle.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ce qui est important sur le plan technique&lt;/strong&gt;&#xA;Nos chauffeurs permettent de maintenir une uniformité thermique à niveau wafer, avec une marge d’erreur de ±0,1 °C sur toute la surface de séchage. La répétabilité du point de consigne est de ±0,5 °C. Il convient de choisir le type de chauffeur en fonction de vos besoins thermiques : halogène à courte longueur d’onde, à longue longueur d’onde, ou en &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;fibre&lt;/a&gt; de carbone/NIR. Les tensions possibles vont de 100 V à 480 V. Les chauffeurs doivent é&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;galement&lt;/a&gt; s’adapter aux plateformes de traitement, aux caisses contenant les wafers, ainsi qu’aux équipements de cuisson utilisés pour l’emballage.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
