Cuire Au Four on The Infrared Heating Company

Lampe infrarouge pour cuissage de polyimide

Wed, 01 Jul 2026 12:33:47 +0800

Dans le domaine de la lithographie, le photorésistant en polyimide ne tolère pas le type de contrôle thermique que l’on peut obtenir avec des lampes ordinaires. Un chauffage doux, même s’il diffère de seulement demi-degré, entraîne une variation de l’épaisseur du photorésistant. Un chauffage trop intense, quant à lui, laisse des résidus après l’etchage. Ce qu’il faut, c’est un chauffage fiable – avec une montée en température rapide, une répétabilité parfaite, et un matériel qui fonctionne dans une salle propre sans ajouter de particules dans le processus de fabrication.

Lampe de cuisson douce pour le photo résistant

Fri, 26 Jun 2026 04:52:36 +0800

Dans le processus de lithographie, ne considérez pas le séchage doux comme une simple étape de préchauffage. Il s’agit en réalité d’une étape thermique essentielle qui permet de fixer la quantité de solvant présent dans le photorésistant et d’améliorer son adhérence à la surface du wafer. Même une déviation de 1°C sur toute la surface du wafer, ou un point froid dans la distribution de chaleur produite par la lampe, peut entraîner des problèmes importants en termes de contrôle dimensionnel. La rugosité des lignes devient plus importante, et des défauts apparaissent.