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		<title>Mou; Doux on The Infrared Heating Company</title>
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				<title>Lampe de cuisson douce pour le photo résistant</title>
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				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 04:52:36 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Lampe de cuisson douce pour le photo résistant&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dans le processus de lithographie, ne considérez pas le séchage doux comme une simple étape de préchauffage. Il s’agit en réalité d’une étape thermique essentielle qui permet de fixer la quantité de solvant présent dans le photorésistant et d’améliorer son adhérence à la surface du wafer. Même une déviation de 1°C sur toute la surface du wafer, ou un point froid dans la &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;distribution&lt;/a&gt; de chaleur produite par la lampe, peut entraîner des problèmes importants en termes de contrôle dimensionnel. La rugosité des lignes devient plus importante, et des défauts apparaissent.&lt;/p&gt;</description>
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