Di area produksi, perubahan suhu sebesar 0,5°C selama proses pemanasan fotoresist dapat menyebabkan banyak produk menjadi limbah. Kelembapan yang tersisa? Itulah yang menyebabkan munculnya cacat seperti bintik-bintik di permukaan wafer atau kerusakan pola yang terbentuk. Cacat-cacat ini muncul di akhir proses produksi, tetapi biayanya sudah harus ditanggung sejak awal. Kami merancang lampu penghilang kelembapan untuk menghilangkan faktor ketidakpastian tersebut, tepat di tempat wafer bersentuhan dengan panas.
Yang penting secara teknis: Lampu ini menggunakan desain inframerah berpanjang gelombang pendek, sehingga mampu menghasilkan pemanasan yang cepat dan merata di permukaan wafer. Kestabilan suhu di seluruh permukaan wafer tetap berada dalam kisaran ±0,1°C. Tingkat repetibilitasnya juga tinggi, karena diukur berdasarkan setiap batch produksi, bukan sekadar perkiraan. Lampu ini dapat digunakan di ruangan bersih kelas 1–100, dengan jalur optik yang tertutup dan bahan-bahan yang tidak mengeluarkan gas, sehingga jumlah partikel pun tetap rendah. Performa lampu ini tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan performa kurang dari 5%. Dengan demikian, anggaran energi yang diperlukan tetap konstan dari satu shift ke shift berikutnya.
Mengapa lampu ini efektif di tempat yang membutuhkannya: Lampu ini mampu menghilangkan kelembapan sebelum dan selama proses pemanasan. Selain itu, lampu ini juga cocok digunakan untuk proses pemanasan jenis “soft bake” maupun “hard bake”, dengan profil pemanasan yang dapat diprediksi. Responsnya sangat cepat, sehingga waktu pemanasan menjadi lebih singkat, dan dimensi-dimensi kritis wafer tetap sesuai spesifikasi. Dengan demikian, kontrol atas dimensi wafer menjadi lebih baik, jumlah produk yang perlu diperbaiki berkurang, dan energi yang digunakan pun berkurang. Desain lampu ini disesuaikan dengan standar peralatan semikonduktor internasional, sehingga dapat digunakan tanpa perlu melakukan penyesuaian ulang pada seluruh sistem produksi.
Beberapa catatan praktis: Pemasangan lampu ini memerlukan penyesuaian antara antarmuka alat, saluran pasokan daya, dan sistem pengunciannya dengan stasiun pemanasan yang sudah ada. Pastikan bagian optiknya tetap bersih, dan pastikan beban termalnya sesuai dengan desain ruangan pemanasan. Jika tidak, kualitas pemanasan akan menurun saat digunakan pada daya yang lebih tinggi. Lakukan penyesuaian pada parameter lampu sesuai dengan jenis fotoresist dan lapisan film yang digunakan.