Lampu pemanggang fotoresist

Fri, 03 Jul 2026 08:35:13 +0800

Di proses litografi, penyimpangan sebesar setengah derajat selama proses pemanasan tidak bisa dianggap sebagai angka biasa dalam spreadsheet. Penyimpangan tersebut berdampak pada perubahan ketebalan lapisan fotorezist, adhesi yang lemah, serta penurunan kualitas hasil etching. Kami merancang lampu pemanas fotorezist sedemikian rupa sehingga variasi termal tersebut dapat dikendalikan, sehingga prosesnya tetap sesuai standar, dari wafer ke wafer lainnya.

Yang penting dalam proses ini Kami menggunakan sumber cahaya NIR dengan kontrol spektral yang ketat untuk memanaskan fotorezist secara langsung. Hal ini mengurangi waktu pemanasan dan memberikan respons termal yang lebih cepat dan efektif. Di area pemanasan, tingkat keseragaman suhu di antara wafer-wafer tetap berada dalam kisaran ±0,1°C, dan tingkat repetibilitasnya tetap stabil meski proses dilakukan ribuan kali. Alat ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dan kami memastikan bahwa tidak ada partikel yang terbentuk di antarmuka alat tersebut. Alat ini dirancang untuk digunakan 24/7, dengan masa pakai yang mencapai 5.000 jam, tanpa penurunan kualitas hasilnya.

Lampu pemanasan ringan untuk photoresist

Fri, 26 Jun 2026 04:52:38 +0800

Di area litografi, jangan anggap proses “soft bake” sebagai langkah pemanasan saja. Sebenarnya, proses ini merupakan langkah penting untuk memastikan kandungan pelarut tetap stabil dan untuk meningkatkan daya rekat fotoresist pada permukaan wafer. Jika ada perubahan suhu sebesar 1°C di permukaan wafer, atau adanya daerah yang terlalu dingin akibat pola pencahayaan dari lampu, maka kontrol dimensi wafer akan menjadi sulit. Hal ini akan menyebabkan ketidakteraturan lebar garis pada permukaan wafer, serta munculnya cacat-cacat pada wafer tersebut.

Fotorezist on The Infrared Heating Company

Lampu pemanggang fotoresist

Lampu pemanasan ringan untuk photoresist