Lampu penghilang kelembapan wafer

Mon, 22 Jun 2026 23:26:53 +0800

Di area produksi, perubahan suhu sebesar 0,5°C selama proses pemanasan fotoresist dapat menyebabkan banyak produk menjadi limbah. Kelembapan yang tersisa? Itulah yang menyebabkan munculnya cacat seperti bintik-bintik di permukaan wafer atau kerusakan pola yang terbentuk. Cacat-cacat ini muncul di akhir proses produksi, tetapi biayanya sudah harus ditanggung sejak awal. Kami merancang lampu penghilang kelembapan untuk menghilangkan faktor ketidakpastian tersebut, tepat di tempat wafer bersentuhan dengan panas.

Yang penting secara teknis: Lampu ini menggunakan desain inframerah berpanjang gelombang pendek, sehingga mampu menghasilkan pemanasan yang cepat dan merata di permukaan wafer. Kestabilan suhu di seluruh permukaan wafer tetap berada dalam kisaran ±0,1°C. Tingkat repetibilitasnya juga tinggi, karena diukur berdasarkan setiap batch produksi, bukan sekadar perkiraan. Lampu ini dapat digunakan di ruangan bersih kelas 1–100, dengan jalur optik yang tertutup dan bahan-bahan yang tidak mengeluarkan gas, sehingga jumlah partikel pun tetap rendah. Performa lampu ini tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan performa kurang dari 5%. Dengan demikian, anggaran energi yang diperlukan tetap konstan dari satu shift ke shift berikutnya.

Kelembapan on The Infrared Heating Company

Lampu penghilang kelembapan wafer