<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Lembut on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/id/tags/lembut/</link>
		<description>Recent content in Lembut on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 04:52:38 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/id/tags/lembut/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pemanasan ringan untuk photoresist</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/id/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 04:52:38 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/id/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Lampu pemanasan ringan untuk photoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di area litografi, jangan anggap proses “soft bake” sebagai langkah pemanasan saja. Sebenarnya, proses ini merupakan langkah penting untuk memastikan kandungan pelarut tetap stabil dan untuk meningkatkan daya rekat fotoresist pada permukaan wafer. Jika ada perubahan suhu sebesar 1°C di permukaan wafer, atau adanya daerah yang terlalu dingin akibat pola pencahayaan dari lampu, maka kontrol dimensi wafer akan menjadi sulit. Hal ini akan menyebabkan ketidakteraturan lebar garis pada permukaan wafer, serta munculnya cacat-cacat pada wafer tersebut.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
