http://ir-heat-co.com/id/tags/panggang/ Recent content in Panggang on The Infrared Heating Company Hugo id Wed, 01 Jul 2026 12:33:47 +0800 http://ir-heat-co.com/id/posts/polyimide-bake-infrared-lamp/ Wed, 01 Jul 2026 12:33:47 +0800 http://ir-heat-co.com/id/posts/polyimide-bake-infrared-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-co.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Lampu inframerah untuk pemanggangan bahan poliimida"></p> <p>Di lingkungan litografi, bahan fotoresist berbahan poliimida tidak akan tahan terhadap tingkat kontrol termal yang diberikan oleh lampu biasa. Proses pemanasan yang <a href="https://henruite.com">terlalu</a> lembut pun dapat menyebabkan ketebalan lapisan fotoresist berubah, sedangkan proses pemanasan yang terlalu keras akan meninggalkan sisa-sisa zat kimia setelah proses etching. Yang dibutuhkan adalah sistem pemanasan yang dapat diandalkan—dengan laju pemanasan yang cepat, tingkat repetibilitas yang tinggi, serta perangkat keras yang berfungsi dengan baik dalam lingkungan cleanroom tanpa menambah partikel ke dalam proses produksi.</p> http://ir-heat-co.com/id/posts/photoresist-soft-bake-lamp/ Fri, 26 Jun 2026 04:52:38 +0800 http://ir-heat-co.com/id/posts/photoresist-soft-bake-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-co.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Lampu pemanasan ringan untuk photoresist"></p> <p>Di area litografi, jangan anggap proses “soft bake” sebagai langkah pemanasan saja. Sebenarnya, proses ini merupakan langkah penting untuk memastikan kandungan pelarut tetap stabil dan untuk meningkatkan daya rekat fotoresist pada permukaan wafer. Jika ada perubahan suhu sebesar 1°C di permukaan wafer, atau adanya daerah yang terlalu dingin akibat pola pencahayaan dari lampu, maka kontrol dimensi wafer akan menjadi sulit. Hal ini akan menyebabkan ketidakteraturan lebar garis pada permukaan wafer, serta munculnya cacat-cacat pada wafer tersebut.</p>