Sensor on The Infrared Heating Company

Pemanas untuk pembuatan sensor hidrogen

Mon, 27 Jul 2026 06:42:10 +0800

Cara yang Tepat untuk Proses Pengeringan dan Pemadatan menggunakan Sinar Inframerah pada Sensor Hidrogen

Saat membuat sensor hidrogen, tahap pengeringan dan pemadatan merupakan titik kritis yang menentukan keberhasilan proses pembuatan sensor tersebut. Untuk memastikan prosesnya berjalan secara ramah lingkungan dan bebas timbal—yang sebenarnya merupakan aturan wajib dalam industri semikonduktor saat ini—kita menggunakan metode pengeringan dan pemadatan dengan sinar inframerah.

Bayangkan saja: oven konvensional membutuhkan waktu yang lama untuk memanaskan udara di sekitar komponen yang akan diproses. Sedangkan sinar inframerah mampu mengirimkan energi langsung ke permukaan komponen tersebut. Tidak ada zat kimia atau emisi berbahaya yang dihasilkan; hanya panas yang digunakan untuk proses pemadatan.

Kemasan sensor cerdas berbasis inframerah

Tue, 21 Jul 2026 09:33:28 +0800

Mengapa kita beralih dari penggunaan udara panas ke metode pemanasan inframerah dalam pengemasan semikonduktor
Jika Anda bekerja di bidang pemrosesan sensor cerdas, Anda pasti tahu bahwa masalah utamanya adalah waktu yang dibutuhkan untuk proses pemanasan. Semua proses membutuhkan waktu yang lama. Itulah mengapa banyak orang beralih dari penggunaan udara panas ke metode pemanasan inframerah.

Intinya, cara pemanasan yang digunakan sangat penting. Pemanasan menggunakan udara biasa lambat, karena udara tersebut perlu dipanaskan terlebih dahulu sebelum bisa memanaskan komponen yang akan diproses. Sedangkan metode pemanasan inframerah menghilangkan kebutuhan akan proses pemanasan udara tersebut. Energi panas dikirim langsung ke material yang akan diproses.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Tue, 21 Jul 2026 09:26:29 +0800

Mengapa kita menggunakan metode pengeringan dengan sinar inframerah untuk semikonduktor bebas timbal
Saat memproduksi sensor MEMS, hal terakhir yang diinginkan adalah adanya kontaminasi pada substratnya. Substrat perlu dalam keadaan kering dan bersih. Itulah sebabnya kita menggunakan metode pengeringan dengan sinar inframerah. Metode ini dapat menghilangkan kelembapan dan pelarut tanpa memerlukan bahan kimia tambahan atau katalis berbasis timbal. Energi cahaya inframerahlah yang digunakan untuk proses pengeringan tersebut.

Bagaimana prinsip kerjanya
Bayangkan oven konvensional biasa. Oven tersebut memanaskan udara, lalu udara itulah yang memanaskan permukaan benda yang akan dikeringkan. Prosesnya lambat. Berbeda dengan sinar inframerah. Sinar inframerah langsung menembus molekul air atau pelarut yang ada di permukaan wafer, sehingga menyebabkan penguapan yang cepat. Prosesnya hampir instan. Hal ini sangat penting, karena dapat mencegah terjadinya fenomena “skinning”, yaitu kondisi di mana bagian atas wafer menjadi terlalu kering, sehingga pelarut tetap tertinggal di bawahnya.

Sensor suhu untuk alat pengolahan wafer

Sun, 19 Jul 2026 15:43:39 +0800

Mengapa Pemanasan Inframerah Lebih Unggul daripada Pemanasan Udara Panas untuk Proses Pengolahan Wafer
Jika Anda berpikir untuk beralih dari metode pemanasan udara panas ke metode pemanasan inframerah dalam proses pengolahan wafer, jangan anggapnya sekadar penggunaan peralatan yang “lebih baik”. Anggaplah ini sebagai cara untuk menghemat waktu.

Pemanasan udara panas membutuhkan waktu yang lama. Metode ini menggunakan konveksi, di mana udara dipanaskan terlebih dahulu, lalu diharapkan udara tersebut dapat memanaskan wafer. Selalu ada keterlambatan dalam proses ini. Sebaliknya, pemanasan inframerah menggunakan energi radiasi untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Cepat sekali.