Nella fase di litografia, il photoresist in poliimide non tollera quel tipo di controllo termico che si può ottenere utilizzando lampade ordinarie. Un riscaldamento troppo delicato, anche solo di mezzo grado, fa sì che lo spessore del photoresist aumenti; un riscaldamento eccessivo, invece, lascia residui dopo l’etching. Quello di cui si ha bisogno è un riscaldamento preciso: una rampa di riscaldamento rapida, una precisione elevata nei risultati e un hardware in grado di funzionare in ambienti puliti, senza aggiungere particelle all’ambiente di lavoro.
Ecco cosa è importante da considerare: le nostre lampade a infrarossi per il riscaldamento del poliimide utilizzano emettitori a onde corte, ottimizzati per l’assorbimento da parte del poliimide. Questo permette un riscaldamento rapido e senza contatto, con bassa inerzia termica. La uniformità a livello di wafer rimane entro ±0,1°C, mentre la ripetibilità tra diversi cicli di riscaldamento è entro ±0,2°C. Queste lampade funzionano in ambienti puliti di classe 1–100, senza generazione di particelle, come verificato in loco. L’output rimane stabile per oltre 5.000 ore, con una diminuzione inferiore al 5%. Il sistema è progettato per funzionare 24/7, con un raffreddamento controllato che mantiene costante il bilancio termico.
Quali sono i vantaggi quando il sistema è in funzione? Si ottiene un migliore controllo delle dimensioni critiche dei componenti, e quindi meno lotto di prodotti che devono essere rifatti. I cicli di riscaldamento delicato terminano in pochi secondi, e la rimozione dei solventi avviene in modo prevedibile. Il riscaldamento intensivo garantisce una densità adeguata di legami tra le molecole del poliimide, evitando così stress residui e riducendo il rischio di distorsioni nei pattern. Inoltre, si riduce anche l’uso di energia, poiché essa viene utilizzata direttamente per riscaldare il photoresist, invece di riscaldare l’intera camera. Il risultato sono profili di erosione coerenti, minori quantità di scarti e tempi di produzione più affidabili.
Alcune note pratiche prima di procedere con l’acquisto: è necessario abbinare le dimensioni delle lampade e i loro componenti ottici alle esigenze specifiche del processo di applicazione e riscaldamento del photoresist. La messa in funzione è rapida, ma è importante regolare le velocità di riscaldamento in base alle caratteristiche specifiche del fotoresist utilizzato. Poiché l’intensità dei raggi infrarossi varia in funzione della distanza, è necessario mantenere una certa distanza tra le lampade e il materiale da trattare; altrimenti, uniformità e ripetibilità dei risultati ne risentirebbero. È inoltre necessario effettuare regolazioni periodiche delle lampade e assicurarsi che i processi vengano eseguiti in ambienti puliti, per evitare l’accumulo di particelle.