Cuocere in Forno on The Infrared Heating Company

Lampada a infrarossi per essiccazione del poliimide

Wed, 01 Jul 2026 12:33:47 +0800

Nella fase di litografia, il photoresist in poliimide non tollera quel tipo di controllo termico che si può ottenere utilizzando lampade ordinarie. Un riscaldamento troppo delicato, anche solo di mezzo grado, fa sì che lo spessore del photoresist aumenti; un riscaldamento eccessivo, invece, lascia residui dopo l’etching. Quello di cui si ha bisogno è un riscaldamento preciso: una rampa di riscaldamento rapida, una precisione elevata nei risultati e un hardware in grado di funzionare in ambienti puliti, senza aggiungere particelle all’ambiente di lavoro.

Lampada per cottura lenta del fotoresist

Fri, 26 Jun 2026 04:52:38 +0800

Nella fase di litografia, non bisogna considerare il “soft bake” come una semplice fase di riscaldamento preliminare. Si tratta invece di una fase termica fondamentale, che permette di fissare il contenuto di solventi nel fotorestista e di garantire una buona adesione dello stesso al substrato. Anche un piccolo cambiamento di temperatura, di appena 1°C, può compromettere il controllo delle dimensioni dei componenti prodotti. Inoltre, aumenta la rugosità delle linee disegnate sul substrato, e ne conseguono dei difetti.