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		<title>Fotoresistente on The Infrared Heating Company</title>
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		<description>Recent content in Fotoresistente on The Infrared Heating Company</description>
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				<title>Lampada per la cottura del fotoresist</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/it/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Lampada per la cottura del fotoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nel processo di litografia, un’oscillazione di mezzo grado durante la fase di essiccazione del fotoresist non rappresenta semplicemente un valore numerico negli archivi dei dati. Questo tipo di variazione si manifesta come variazioni nella larghezza delle linee tracciate dal fotoresist, scarsa adesione dello stesso al substrato, e una diminuzione della qualità del prodotto dopo l’etching. Abbiamo progettato le nostre lampade per eliminare queste variazioni, in modo che il processo rimanga all’interno dei parametri prestabiliti, wafer dopo wafer.&lt;/p&gt;</description>
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