<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Poliammide on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/it/tags/poliammide/</link>
		<description>Recent content in Poliammide on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>it</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 01 Jul 2026 12:33:47 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/it/tags/poliammide/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampada a infrarossi per essiccazione del poliimide</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/it/posts/polyimide-bake-infrared-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 01 Jul 2026 12:33:47 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/it/posts/polyimide-bake-infrared-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Lampada a infrarossi per essiccazione del poliimide&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nella fase di litografia, il photoresist in poliimide non tollera quel tipo di controllo termico che si può ottenere utilizzando lampade ordinarie. Un riscaldamento troppo delicato, anche solo di mezzo grado, fa sì che lo spessore del photoresist aumenti; un riscaldamento eccessivo, invece, lascia residui dopo l’etching. Quello di cui si ha bisogno è un riscaldamento preciso: una rampa di riscaldamento rapida, una precisione elevata nei risultati e un hardware in grado di funzionare in ambienti puliti, senza aggiungere particelle all’ambiente di lavoro.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
