Lampada per la rimozione dell umidità dai wafer

Mon, 22 Jun 2026 23:26:53 +0800

Nelle linee di produzione, una variazione di temperatura di 0,5°C durante il processo di essiccazione del fotorest è sufficiente per trasformare un gran numero di wafer in rifiuti. L’umidità residua, invece, causa problemi come difetti sulla superficie dei wafer e distorsioni nei pattern prodotti: difetti che compaiono in fase avanzata del processo e che causano perdite economiche fin dalle fasi iniziali. Abbiamo progettato la nostra lampada per l’eliminazione dell’umidità proprio per eliminare questo fattore critico, proprio nel punto in cui il wafer viene esposto al calore.

Umidità on The Infrared Heating Company

Lampada per la rimozione dell umidità dai wafer