<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>ベーキング on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/ja/tags/%E3%83%99%E3%83%BC%E3%82%AD%E3%83%B3%E3%82%B0/</link>
		<description>Recent content in ベーキング on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ja</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 08:35:12 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/ja/tags/%E3%83%99%E3%83%BC%E3%82%AD%E3%83%B3%E3%82%B0/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>フォトレジスト焼成ランプ</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/ja/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:35:12 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/ja/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;フォトレジスト焼成ランプ&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;リソグラフィー工程において、ソフトベイクやハードベイクの際に生じる0.5度程度のずれは、スプレッドシート上の数字としては表れません。しかし、それは線幅のばらつきや接着力の低下、エッチング後の歩留まりの低下として現れます。私たちは、このようなばらつきを&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;排除&lt;/a&gt;するために、フォトレジストを加熱するランプを特別に設計しました。これにより、ウェーハごとにプロセスが規格内で維持されます。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Eビームレジスト焼成ヒーター</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/ja/posts/e-beam-resist-baking-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 04 Jun 2026 03:26:01 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/ja/posts/e-beam-resist-baking-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Eビームレジスト焼成ヒーター&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;fabフロアにおけるeビームレジストのベイクはウォームアップではないプロセスの基準点である&#34;&gt;FabフロアにおけるEビームレジストのベイクはウォームアップではない。プロセスの基準点である。&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;ホットプレートで2℃のドリフトが発生すれば、クリティカルディメンションのバイアスが変動し、オーバーレイがずれ始める。その結果、スケジュールが遅延しながらリソグラフィセルの歩留まり回復を追いかけることになる。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
