<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>除去 on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/ja/tags/%E9%99%A4%E5%8E%BB/</link>
		<description>Recent content in 除去 on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ja</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 23:26:53 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/ja/tags/%E9%99%A4%E5%8E%BB/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>ウェーハ除湿ランプ</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/ja/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 23:26:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/ja/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;ウェーハ除湿ランプ&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ファブの現場では、フォトレジストを加熱する際に0.5℃程度の温度変動があるだけで、多くのウエハが廃棄処分になってしまいます。残留水分も問題です。それによって、ウエハの&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;表面&lt;/a&gt;に不均一な加熱が生じ、パターンの崩れやその他の&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;欠陥&lt;/a&gt;が発生し、結果としてコストが増えてしまいます。私たちは、ウエハが加熱される部位でこのような変動要因を排除するために、ウエハ用の水分除去装置を開発しました。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
