<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>베이킹 on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/ko/tags/%EB%B2%A0%EC%9D%B4%ED%82%B9/</link>
		<description>Recent content in 베이킹 on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ko</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 08:35:13 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/ko/tags/%EB%B2%A0%EC%9D%B4%ED%82%B9/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>포토레지스트 건조용 램프</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/ko/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:35:13 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/ko/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;포토레지스트 건조용 램프&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;리소그래피 공정에서, 소프트 베이크나 하드 베이크 과정 중에 발생하는 0.5도 정도의 오차는 단순히 스프레드시트상의 숫자에 불과합니다. 이러한 오차는 선의 굵기 변동, 약한 접착력, 그리고 에칭 후의 수율 저하로 나타납니다. 우리는 이러한 변동성을 줄이기 위해 특수한 포토레지스트 베이킹 램프를 개발했습니다. 그 덕분에 웨이퍼마다 공정이 일관된 상태를 유지할 수 있습니다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>E빔 레지스트 베이킹 히터</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/ko/posts/e-beam-resist-baking-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 04 Jun 2026 03:26:01 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/ko/posts/e-beam-resist-baking-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;E빔 레지스트 베이킹 히터&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;role&#34;&gt;Role&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;공장 현장에서 E-빔 레지스트 베이킹은 단순한 예열이 아니다. 이는 공정의 기준점이다.&lt;br&gt;&#xA;히트 플레이트에서 2°C 편차가 발생하면, 치수 편차가 이동한다. 오버레이가 흔들리기 시작한다. 그러면 일정이 밀리는 동안 리소그래피 셀에서 수율을 다시 맞추기 위해 쫓아가게 된다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
