Lampu inframerah untuk proses pembakaran poliimida

Wed, 01 Jul 2026 12:33:47 +0800

Di bilik proses litografi, bahan fotoresist berbahan poliimid tidak dapat bertahan terhadap kawalan suhu yang boleh dicapai menggunakan lampu biasa. Pemanasan yang perlahan sekalipun boleh menyebabkan ketebalan lapisan fotoresist berubah, manakala pemanasan yang berlebihan pula akan meninggalkan sisa-sisa selepas proses etching. Apa yang diperlukan ialah sistem pemanasan yang boleh diharapkan – dengan kelajuan pemanasan yang cepat, ketepatan yang tinggi, serta peralatan yang berfungsi dengan baik dalam suasana bilik bersih tanpa menambah partikel ke dalam proses pengeluaran.

Lampu pengeringan photoresist yang lembut

Fri, 26 Jun 2026 04:52:38 +0800

Di bahagian litografi, jangan anggap proses “soft bake” sebagai langkah pemanasan semata-mata. Sebenarnya, ia merupakan langkah termal yang penting untuk memastikan kandungan pelarut tetap stabil dan memastikan daya lekat bahan photoresist juga stabil. Jika terdapat perbezaan suhu sebanyak 1°C pada permukaan wafer, atau adanya kawasan sejuk di kawasan lampu, maka kawalan dimensi yang tepat akan terjejas. Ketidakteraturan lebar garisan juga akan meningkat, dan kecacatan pun akan timbul.

Apa yang penting dari segi teknikal

Kami menggunakan lampu NIR untuk proses “soft bake” kerana ia dapat memberikan keseragaman suhu pada tahap sub-milimeter. Reka bentuk pengeluar cahaya jenis kuarsa-halogen serta sistem pemantulnya disesuaikan sedemikian rupa agar profil suhu mengikuti bentuk wafer, bukan heater. Pada permukaan wafer, keseragaman suhu dapat dikekalkan pada tahap ±0.1°C. Kekerapan pengulangan proses juga tetap tinggi kerana keluaran lampu stabil dan profil suhu dapat dipertahankan.

Bakar on The Infrared Heating Company

Lampu inframerah untuk proses pembakaran poliimida

Lampu pengeringan photoresist yang lembut

Apa yang penting dari segi teknikal