http://ir-heat-co.com/ms/tags/fotoresist/ Recent content in Fotoresist on The Infrared Heating Company Hugo ms Fri, 03 Jul 2026 08:35:13 +0800 http://ir-heat-co.com/ms/posts/photoresist-baking-lamp/ Fri, 03 Jul 2026 08:35:13 +0800 http://ir-heat-co.com/ms/posts/photoresist-baking-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-co.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="Lampu untuk memanaskan bahan photoresist"></p> <p>Di bahagian proses litografi, perubahan sudut sebanyak setengah darjah semasa proses memanaskan bahan fotoresist bukanlah angka yang boleh dilihat dalam spreadsheet. Perubahan ini akan menyebabkan variasi ketebalan garis gambar, daya lekat yang lemah, serta penurunan kualiti hasil pengeluaran selepas proses etching. Kami telah mereka bentuk lampu pengeringan fotoresist agar dapat mengurangkan variasi tersebut, supaya proses pengeluaran tetap berjalan dengan lancar, dari satu wafer ke wafer yang lain.</p> <p><strong>Apa yang penting di sebaliknya</strong><br> Kami menggunakan pengeluarkan cahaya jenis NIR dengan kawalan spektrum yang tepat, untuk memanaskan bahan fotoresist secara langsung. Ini membantu mengurangkan kelewatan dalam proses pemanasan, dan memberikan tindak balas termal yang lebih cepat serta lebih baik. Di kawasan pemanggangan, keseragaman suhu pada setiap wafer kekal pada tahap ±0.1°C, dan kebolehulangan proses tetap berada dalam julat yang ditetapkan walaupun setelah ribuan kali proses dilakukan. Alat ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dan kami memastikan bahawa tidak ada zarah yang terbentuk di antara alat tersebut dengan bahan fotoresist. Alat ini direka untuk digunakan 24/7, dengan unit yang digunakan mampu bertahan lebih dari 5,000 jam tanpa masalah.</p> http://ir-heat-co.com/ms/posts/photoresist-soft-bake-lamp/ Fri, 26 Jun 2026 04:52:38 +0800 http://ir-heat-co.com/ms/posts/photoresist-soft-bake-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-co.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Lampu pengeringan photoresist yang lembut"></p> <p>Di bahagian litografi, jangan anggap proses “soft bake” sebagai langkah pemanasan semata-mata. Sebenarnya, ia merupakan langkah termal yang penting untuk memastikan kandungan pelarut tetap stabil dan memastikan daya lekat <a href="https://o-yate.com">bahan</a> photoresist juga stabil. Jika terdapat perbezaan suhu sebanyak 1°C pada permukaan wafer, atau <a href="https://o-yate.net">adanya</a> kawasan sejuk di kawasan lampu, maka kawalan dimensi yang tepat akan terjejas. Ketidakteraturan lebar garisan juga akan meningkat, dan kecacatan pun akan timbul.</p> <h3 id="apa-yang-penting-dari-segi-teknikal">Apa yang penting dari segi teknikal</h3> <p>Kami menggunakan lampu NIR untuk proses “soft bake” kerana ia dapat memberikan keseragaman suhu pada tahap sub-milimeter. Reka bentuk pengeluar cahaya jenis kuarsa-halogen serta sistem pemantulnya disesuaikan sedemikian rupa agar profil suhu mengikuti bentuk wafer, bukan heater. Pada permukaan wafer, keseragaman suhu dapat dikekalkan pada tahap ±0.1°C. Kekerapan pengulangan proses juga tetap tinggi kerana keluaran lampu stabil dan profil suhu dapat dipertahankan.</p>