<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Kelembapan on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/ms/tags/kelembapan/</link>
		<description>Recent content in Kelembapan on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 23:26:53 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/ms/tags/kelembapan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu untuk menghilangkan kelembapan pada wafer</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/ms/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 23:26:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/ms/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Lampu untuk menghilangkan kelembapan pada wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pembakaran fotorezist, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran boleh menyebabkan bahan yang telah diproses menjadi tidak berguna. Kelembapan yang tinggal pula akan menyebabkan masalah seperti ketidaksempurnaan &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;permukaan&lt;/a&gt;, dan kecacatan lain yang akan muncul di kemudian hari, lalu menimbulkan kos tambahan. Kami telah mencipta alat untuk menghilangkan kelembapan pada wafer, agar faktor ini tidak mempengaruhi kualiti wafer tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;teknikalnya&lt;/a&gt;&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Alat ini menggunakan teknologi inframerah gelombang pendek, yang direka untuk pemanasan yang cepat pada permukaan wafer. Kestabilan suhu pada wafer adalah sekitar ±0.1°C, dan prestasi alat ini dapat diukur secara konsisten untuk setiap kumpulan wafer yang diproses. Alat ini boleh digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dengan laluan optik yang tertutup serta bahan-bahan yang kurang mengeluarkan gas, agar jumlah zarah debu tetap rendah. Prestasi alat ini tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan penurunan pengeluaran tenaga kurang dari 5%. Dengan demikian, kawalan suhu tetap konsisten dari satu syif ke syif yang lain.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
