Lampu untuk memanaskan bahan photoresist

Fri, 03 Jul 2026 08:35:13 +0800

Di bahagian proses litografi, perubahan sudut sebanyak setengah darjah semasa proses memanaskan bahan fotoresist bukanlah angka yang boleh dilihat dalam spreadsheet. Perubahan ini akan menyebabkan variasi ketebalan garis gambar, daya lekat yang lemah, serta penurunan kualiti hasil pengeluaran selepas proses etching. Kami telah mereka bentuk lampu pengeringan fotoresist agar dapat mengurangkan variasi tersebut, supaya proses pengeluaran tetap berjalan dengan lancar, dari satu wafer ke wafer yang lain.

Apa yang penting di sebaliknya
Kami menggunakan pengeluarkan cahaya jenis NIR dengan kawalan spektrum yang tepat, untuk memanaskan bahan fotoresist secara langsung. Ini membantu mengurangkan kelewatan dalam proses pemanasan, dan memberikan tindak balas termal yang lebih cepat serta lebih baik. Di kawasan pemanggangan, keseragaman suhu pada setiap wafer kekal pada tahap ±0.1°C, dan kebolehulangan proses tetap berada dalam julat yang ditetapkan walaupun setelah ribuan kali proses dilakukan. Alat ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dan kami memastikan bahawa tidak ada zarah yang terbentuk di antara alat tersebut dengan bahan fotoresist. Alat ini direka untuk digunakan 24/7, dengan unit yang digunakan mampu bertahan lebih dari 5,000 jam tanpa masalah.

Pemanas pembakar resist e beam

Thu, 04 Jun 2026 03:26:02 +0800

On the fab floor, an E-beam resist bake isn’t a warm-up. It’s a process anchor.
Hit a 2°C drift on the hot plate, and your critical dimension bias moves. Overlay starts to slip. Then you’re chasing yield back through the lithography cell while the schedule slides.
What actually matters under the hood
We built the E-beam resist baking heater around short-wave infrared (NIR) emitters and a quartz-enhanced thermal architecture. The payoff is sub-millimeter thermal uniformity across the wafer, and repeatability that holds setpoint within ±0.1°C.
This isn’t a spreadsheet claim. It’s measured on-wafer, under production gas flows, with thermocouple mapping that follows the tool envelope. The system runs in Class 1–100 cleanrooms, and in-situ monitoring confirms zero particle generation. You can count on 24/7 reliability—no unplanned downtime tied to heater drift.
Why it sticks in e-beam lithography
In e-beam, the resist profile comes down to the thermal budget you deliver during soft bake and post-exposure bake. Our heater locks that budget in, so critical dimension control stops being a guessing game.
You get consistent photoresist behavior lot-to-lot, fewer reworks, and less scrap. Energy use drops thanks to fast thermal response and tight temperature control, and you don’t pay for it with lost throughput.
A few practical details
Installation means matching the chamber tool interface and the gas delivery profile. The heater performs best when the exhaust path is balanced—otherwise you can get localized cooling.
Plan a short commissioning run to tune your recipe to the heater’s thermal response time. Once it’s dialed in, the process stays in control, and metrology doesn’t throw you any surprises.

Membakar on The Infrared Heating Company

Lampu untuk memanaskan bahan photoresist

Pemanas pembakar resist e beam