<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>MEMS on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/ms/tags/mems/</link>
		<description>Recent content in MEMS on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 21 Jul 2026 09:26:29 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/ms/tags/mems/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/ms/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 21 Jul 2026 09:26:29 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/ms/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Mengapa kita menggunakan kaedah pengeringan dengan sinar inframerah untuk semikonduktor bebas plumbum&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ketika memproduksi sensor MEMS, perkara &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;terakhir&lt;/a&gt; yang diinginkan ialah substrat yang tercemar. Substrat perlu kering dan bersih. Itulah sebabnya kita menggunakan kaedah pengeringan dengan sinar inframerah. Kaedah ini dapat menghilangkan kelembapan dan pelarut tanpa memerlukan bahan kimia tambahan atau katalis berbasis plumbum. Ia hanya menggunakan tenaga cahaya untuk melakukan proses pengeringan tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Bagaimana prinsip fiziknya berfungsi&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Bayangkan oven konvensional biasa. Ia memanaskan udara, dan udara pula yang memanaskan permukaan bahan tersebut. Proses ini sangat lambat. &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;Namun&lt;/a&gt;, sinar inframerah berbeza. Cahaya inframerah langsung menyerang molekul air atau pelarut yang ada pada permukaan wafer, sehingga menyebabkan evaporasi yang cepat. Proses ini berlaku dalam masa yang singkat. Ini sangat penting kerana ia dapat mengelakkan masalah di mana permukaan atas menjadi terlalu kering, lalu menyebabkan pelarut tertinggal di bawahnya.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
