http://ir-heat-co.com/ms/tags/pemprosesan/ Recent content in Pemprosesan on The Infrared Heating Company Hugo ms Mon, 06 Jul 2026 07:57:53 +0800 http://ir-heat-co.com/ms/posts/wafer-processing-spare-parts-online/ Mon, 06 Jul 2026 07:57:53 +0800 http://ir-heat-co.com/ms/posts/wafer-processing-spare-parts-online/ <p><img src="http://ir-heat-co.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Alat ganti untuk pemprosesan wafer dibeli secara dalam talian."></p> <p><strong>Pengenalan</strong><br> Inilah kenyataan sebenar dalam proses pemprosesan wafer: masa operasi yang stabil adalah segalanya. Jika proses pengeluaran terhenti, semuanya akan berhenti juga. Itulah sebabnya kami mencipta lampu pemanas jenis halogen ini untuk memastikan proses pengeluaran dapat berjalan seperti biasa. Lampu ganti yang kami sediakan direka khas untuk digunakan sebagai pengganti yang sesuai <a href="https://henruite.com">dengan</a> peralatan semikonduktor moden anda.</p> <p><strong>Cara Kerja Lampu tersebut</strong><br> Dalam bilik pemprosesan wafer, suhu perlu kekal stabil dan tidak berubah-ubah. Lampu halogen yang kamihasilkan direka untuk memenuhi keperluan tersebut. Ia menghasilkan tenaga yang sama setiap kali digunakan, dan saiznya juga sesuai dengan peralatan asal anda. Dengan cara ini, suhu akan tetap stabil dari satu batch ke batch yang lain. Ini bermakna kurangnya sisa produk yang tidak berkualiti, serta kurangnya keperluan untuk membaiki semula peralatan.</p> http://ir-heat-co.com/ms/posts/rapid-thermal-processing-rtp-lamp/ Fri, 05 Jun 2026 04:01:11 +0800 http://ir-heat-co.com/ms/posts/rapid-thermal-processing-rtp-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-co.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Lampu pemprosesan terma cepat (RTP)"></p> <p>Di lantai fabrik, wafer 300mm dipenuhi dengan ribuan die, dan anggaran terma adalah sesuatu yang sakral. Pergerakan 2°C semasa soft bake photoresist atau spike anneal boleh membakar kecacatan terus ke dalam corak, mengganggu keseragaman CD dan menghapuskan banyak die yang baik. Kami bergantung pada sistem lampu pemprosesan terma cepat (RTP) untuk mengelakkan perkara itu berlaku, dengan kawalan suhu di tahap wafer yang boleh diulang.</p> <p><strong>Apa yang sebenarnya penting di dalamnya</strong> Kami menggunakan lampu halogen gelombang pendek dalam konfigurasi pyrometry tertutup. Ini memberikan kami respons milisaat dan keseragaman suhu yang ketat di seluruh wafer—biasanya ±0.1°C. Komponen kuarza dan fixture rendah gas yang mengeluarkan partikel membantu mengurangkan jumlah partikel, yang diperlukan untuk kelas cleanroom 1–100. Hasilnya adalah pemindahan tenaga yang boleh diramalkan ke dalam tumpukan, sama ada anda melakukan hard bake photoresist atau spike anneal, dengan sedikit lebihan terma. Tingkap proses <a href="https://henruite.com">terbuka</a>, dan kebolehulangan dari kitaran ke kitaran menjadi lebih baik.</p>