<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Polimer Imida on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/ms/tags/polimer-imida/</link>
		<description>Recent content in Polimer Imida on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 01 Jul 2026 12:33:47 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/ms/tags/polimer-imida/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu inframerah untuk proses pembakaran poliimida</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/ms/posts/polyimide-bake-infrared-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 01 Jul 2026 12:33:47 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/ms/posts/polyimide-bake-infrared-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Lampu inframerah untuk proses pembakaran poliimida&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik proses litografi, bahan fotoresist berbahan poliimid tidak dapat bertahan terhadap kawalan suhu yang boleh dicapai menggunakan lampu biasa. Pemanasan yang perlahan sekalipun boleh menyebabkan &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;ketebalan&lt;/a&gt; lapisan fotoresist berubah, manakala pemanasan yang berlebihan pula akan meninggalkan sisa-sisa selepas proses etching. Apa yang diperlukan ialah sistem pemanasan yang boleh diharapkan – dengan kelajuan pemanasan yang cepat, ketepatan yang tinggi, serta peralatan yang berfungsi dengan baik dalam suasana bilik bersih tanpa menambah partikel ke dalam proses pengeluaran.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
