Sensor on The Infrared Heating Company

Pemanas untuk penghasilan sensor hidrogen

Mon, 27 Jul 2026 06:42:42 +0800

Cara yang betul untuk proses pengerasan menggunakan cahaya inframerah pada sensor hidrogen

Ketika membina sensor hidrogen, proses pengeringan dan pengerasan merupakan langkah yang sangat penting. Untuk memastikan proses ini berjalan dengan efektif dan mesra alam—seperti yang ditetapkan oleh undang-undang dalam industri semikonduktor masa kini—kita menggunakan kaedah pengerasan menggunakan cahaya inframerah.

Bayangkanlah begini: ketuhar konvensional memerlukan masa yang lama untuk memanaskan udara di sekeliling komponen tersebut. Sebaliknya, cahaya inframerah dapat menghantar tenaga secara langsung ke permukaan komponen tersebut. Tiada bahan kimia yang digunakan, dan tiada bahan berbahaya yang terhasil. Hanya haba sahaja yang digunakan.

Pembungkusan sensor pintar untuk pengesanan gelombang inframerah

Tue, 21 Jul 2026 09:33:28 +0800

Mengapa kita menggantikan penggunaan udara panas dengan teknologi IR dalam pembungkusan semikonduktor
Jika anda bekerja dalam bidang pemprosesan sensor pintar, anda pasti tahu bahawa masalah utama yang sering dihadapi ialah masa yang diperlukan untuk memanaskan komponen tersebut. Semuanya memerlukan masa yang lama. Itulah sebabnya ramai daripada kita beralih daripada penggunaan udara panas kepada teknologi pemanasan inframerah (IR).

Sebenarnya, perkara ini berkaitan dengan cara haba sampai ke komponen tersebut. Udara yang dipaksa untuk mengalir melalui komponen tersebut memerlukan masa yang lama, kerana udara perlu dipanaskan terlebih dahulu sebelum ia dapat memanaskan komponen tersebut. Sebaliknya, teknologi IR membolehkan tenaga disalurkan terus ke dalam bahan tersebut tanpa perlu melalui udara.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Tue, 21 Jul 2026 09:26:29 +0800

Mengapa kita menggunakan kaedah pengeringan dengan sinar inframerah untuk semikonduktor bebas plumbum
Ketika memproduksi sensor MEMS, perkara terakhir yang diinginkan ialah substrat yang tercemar. Substrat perlu kering dan bersih. Itulah sebabnya kita menggunakan kaedah pengeringan dengan sinar inframerah. Kaedah ini dapat menghilangkan kelembapan dan pelarut tanpa memerlukan bahan kimia tambahan atau katalis berbasis plumbum. Ia hanya menggunakan tenaga cahaya untuk melakukan proses pengeringan tersebut.

Bagaimana prinsip fiziknya berfungsi
Bayangkan oven konvensional biasa. Ia memanaskan udara, dan udara pula yang memanaskan permukaan bahan tersebut. Proses ini sangat lambat. Namun, sinar inframerah berbeza. Cahaya inframerah langsung menyerang molekul air atau pelarut yang ada pada permukaan wafer, sehingga menyebabkan evaporasi yang cepat. Proses ini berlaku dalam masa yang singkat. Ini sangat penting kerana ia dapat mengelakkan masalah di mana permukaan atas menjadi terlalu kering, lalu menyebabkan pelarut tertinggal di bawahnya.

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Sun, 19 Jul 2026 15:43:40 +0800

Mengapa Pemanasan Inframerah Lebih Baik Daripada Pemanasan Udara Panas untuk Proses Pengolahan Wafer

Jika anda sedang mempertimbangkan untuk beralih daripada penggunaan udara panas kepada pemanasan inframerah dalam proses pengolahan wafer, jangan anggapnya sebagai cara untuk mendapatkan peralatan yang lebih baik sahaja. Anggaplah ia sebagai cara untuk menjimatkan masa.

Pemanasan udara panas merupakan kaedah yang lambat. Ia menggunakan prinsip konveksi, di mana udara dipanaskan terlebih dahulu, dan kemudian udara tersebut digunakan untuk memanaskan wafer. Sentiasa ada kelewatan dalam proses ini. Sebaliknya, pemanasan inframerah menggunakan tenaga radiasi untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung.