Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Sun, 19 Jul 2026 15:43:40 +0800

Mengapa Pemanasan Inframerah Lebih Baik Daripada Pemanasan Udara Panas untuk Proses Pengolahan Wafer

Jika anda sedang mempertimbangkan untuk beralih daripada penggunaan udara panas kepada pemanasan inframerah dalam proses pengolahan wafer, jangan anggapnya sebagai cara untuk mendapatkan peralatan yang lebih baik sahaja. Anggaplah ia sebagai cara untuk menjimatkan masa.

Pemanasan udara panas merupakan kaedah yang lambat. Ia menggunakan prinsip konveksi, di mana udara dipanaskan terlebih dahulu, dan kemudian udara tersebut digunakan untuk memanaskan wafer. Sentiasa ada kelewatan dalam proses ini. Sebaliknya, pemanasan inframerah menggunakan tenaga radiasi untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung.

Pemanas suhu dengan ketepatan yang tinggi

Wed, 17 Jun 2026 15:36:35 +0800

Pada garis panjang 300mm, had suhu yang boleh dicapai bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia merupakan had yang tidak boleh dilanggar. Jika terjadi perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pemanggangan, ia akan dapat dilihat dalam profil fotorezist. Jika suhu pemanggangan tidak mencapai nilai yang ditetapkan, hasilnya ialah permukaan yang tidak rata setelah proses pengolahan selesai. Kami merancang pemanas ini untuk menghadapi realiti ini, kerana di fasiliti pembuatan, setiap minit masa henti yang tidak dirancangkan akan menjejaskan kualiti produk yang dihasilkan.

Suhu on The Infrared Heating Company

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Mengapa Pemanasan Inframerah Lebih Baik Daripada Pemanasan Udara Panas untuk Proses Pengolahan Wafer

Pemanas suhu dengan ketepatan yang tinggi