<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Verwijdering on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/nl/tags/verwijdering/</link>
		<description>Recent content in Verwijdering on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 23:26:53 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/nl/tags/verwijdering/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lamp voor het verwijderen van vocht uit wafers</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/nl/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 23:26:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/nl/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Lamp voor het verwijderen van vocht uit wafers&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de productielijn kan een verschil van 0,5°C tijdens het verhitten van de fotoresist ertoe leiden dat veel producten niet meer bruikbaar zijn. Residuele vochtigheid? Dat zorgt voor defecten als oneffenheden op het oppervlak en problemen met het patroon – defecten die pas later worden ontdekt, maar al vroeg kosten veroorzaken. We hebben onze lamp ontworpen om deze variabelen weg te nemen, precies op de plek waar de wafer in contact komt met de hitte.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
