<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Zacht on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/nl/tags/zacht/</link>
		<description>Recent content in Zacht on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 04:52:39 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/nl/tags/zacht/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Fotorest zachte baklamp</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/nl/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 04:52:39 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/nl/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Fotorest zachte baklamp&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de lithografieafdeling mag je de ‘soft bake’-stap niet beschouwen als een soort opwarmprocedure. Het gaat om een thermische stap die ervoor zorgt dat de concentratie van oplosmiddelen vastligt en dat de hechting van het fotorezistent gelijkmatig is. Als er een verschil van 1°C optreedt over het oppervlak van de wafer, of als er ‘koude plekken’ zijn in het lichtpatroon, dan raakt de nauwkeurige controle over de afmetingen van de wafer verstoord. De ruwheid van de lijnen neemt toe en er ontstaan defecten.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
