Lâmpada de remoção de umidade em wafer

Mon, 22 Jun 2026 23:26:53 +0800

Na linha de produção, uma variação de 0,5°C durante o processo de cura do fotoreativo pode causar grandes prejuízos, pois transforma grande parte dos produtos em resíduos inúteis. Umidade residual? Essa é a causa de defeitos como imperfeições na superfície do wafer e colapso dos padrões desejados – defeitos que surgem tarde demais, mas causam custos significativos desde o início. Desenvolvemos nossa lâmpada de remoção de umidade justamente para eliminar esse fator, exatamente no ponto onde o wafer entra em contato com o calor.

Remoção on The Infrared Heating Company

Lâmpada de remoção de umidade em wafer