Инфракрасная лампа для обжига полиимида

Wed, 01 Jul 2026 12:33:47 +0800

На этапе литографии полиимидный фоторезист не выдерживает тех условий термоконтроля, которые возможны при использовании обычных ламп. Недостаточно интенсивная подготовка поверхности приводит к увеличению толщины фоторезиста, а чрезмерно интенсивная подготовка оставляет после процесса эчинга нежелательные отложения. Необходимо использовать такой источник тепла, который позволяет контролировать процесс нагрева – быстрый рост температуры, высокая степень воспроизводимости, а также оборудование, которое может работать в чистой комнате без образования частиц.

Вот что действительно важно:

Наши инфракрасные лампы для обработки полиимидного фоторезиста используют коротковолновые излучатели, настроенные на поглощение света полиимидом. Это позволяет достичь быстрого нагрева без контакта с поверхностью, при этом тепловая инерция минимальна. Равномерность температуры на всей поверхности пластинки составляет ±0,1°C, а воспроизводимость между разными сериями продукции – ±0,2°C. Эти лампы могут работать в чистых комнатах класса 1–100 без образования частиц; это подтверждается прямыми измерениями. Рабочая мощность ламп остается стабильной в течение более 5 000 часов, с отклонением менее 5%. Система предназначена для круглосуточной работы с контролируемым охлаждением, что помогает сохранять стабильные температурные условия.

Полиимид on The Infrared Heating Company

Инфракрасная лампа для обжига полиимида